Система электромагнитного отклонения луча EPOS-SWEEP

✔  Назначение

Система электромагнитного отклонения луча EPOS-SWEEP решает ключевую проблему ЭЛИ - неравномерный прогрев материала и образование «горячих пятен» или «туннелей» в тигле. Благодаря высокочастотному сканированию до 250 Гц и программируемым траекториям (окружность, линия, спираль, меандр), ручное управление джойстиком и дистанционный контроль по RS485. Система обеспечивает равномерное испарение даже самых капризных материалов - оксидов, фторидов, тугоплавких металлов. В рабочем режиме отклонение ограничено безопасным диапазоном (±15–30°), чтобы сохранить фокусировку и избежать пробоя.

Система используется в составе вакуумных PVD-установок для:

• равномерного распределения тепловой нагрузки по поверхности тигля,
• предотвращения «туннелирования» (локального углубления в материале),
• стабилизации скорости испарения при длительных циклах,
• защиты керамических изоляторов и катода от запыления при переходах между тиглями.

✔ Описание

Блок отклонения луча EPOS-SWEEP управляет двумя парами электромагнитных катушек (X/Y) через специально разработанную схему с низкой индуктивностью, что позволяет достигать частоты сканирования до 250 Гц - значительно выше, чем у типовых аналогов (обычно ≤ 50 Гц).

Интерфейс управления:

• 4-строчный символьный дисплей на передней панели,
• инкрементный энкодер для навигации по меню,
• джойстик X-Y для смещения нулевой точки фокуса,
• выносной пульт на 5 м с дополнительным джойстиком и кнопками «Пуск/Стоп»,
• RS485 для дистанционного управления из АСУ.

Параметры сканирования:

• Траектории: окружность, линия, треугольник, квадрат, спираль, синус, модуль синуса, меандр;
• Амплитуда: 1–100% (регулируется под размер тигля);
• Частота: 1–100 Гц (базово), до 250 Гц (в режиме высокой равномерности);
• Смещение нулевой точки: ±100% по X и Y;
• Профиль мощности: регулировка времени пребывания луча в центре и на краях - для компенсации неравномерности испарения.

Система полностью совместима с катушками отклонения зарубежных ЭЛИ (Ferrotec, Telemark), что позволяет модернизировать импортные установки без замены механики.

✔ Преимущества

• Устраняет «горячие пятна» и «туннелирование»: за счёт высокочастотного сканирования (до 250 Гц);
• Стабильность процесса: профиль мощности и траектория адаптируются под Al, W, Ta, оксиды, фториды;
• Гибкость управления: от ручного джойстика до полной автоматизации через RS485;.
• Совместимость со всеми ЭЛИ EPOS-BEAM: 1RND, -1HP, -1PRO-R, -4-H, -6-H, -6-V;
• Совместимость с импортными ЭЛИ: Ferrotec, Telemark и др.;
• Российское производство: гарантия, сервис, поддержка.

✔ Особенности (технические параметры)

• Тип управления: Электромагнитное отклонение (X-Y);

• Функция «укрытия» луча: Поворот катодного узла на 270° (физический, не сканирование);

• Рабочий угол отклонения луча: ±15° … ±30° (по осям X/Y);

• Макс. частота сканирования: до 250 Гц;

• Траектории: Окружность, линия, треугольник, квадрат, спираль, синус, модуль синуса, меандр;

• Амплитуда: 1-100%;

• Смещение нулевой точки: ±100% по X и Y;

• Профиль мощности: Регулируемое время пребывания луча в центре/на краях;

• Интерфейс управления: Джойстик X-Y, энкодер, 4-строчный дисплей, выносной пульт (5 м), RS485;

• Совместимость: все модели EPOS-BEAM, Ferrotec, Telemark;

• Производство: Россия.