Настольная установка магнетронного напыления - EPOS-PVD-DESK-STD

🕛 Под заказ
Артикул: 833443868
Мощность до 1,5кВт, встроенный нагрев подложек.

Настольная магнетронная установка EPOS-PVD-DESK-STD в стандартном исполнении – это оптимальное решение для целей и задач учебного процесса в ВУЗах, а также научно-исследовательской деятельности.
Источник питания:
2-канальный DC источник питания 1500 Вт
RF источник питания:
Магнетрон #1 с ручной заслонкой:
Магнетрон #2 с ручной заслонкой:
Нагрев подложки:
до 350°С
Система откачки:
Регулятор расхода газа:
Датчик толщины:
Пневмопривод заслонок магнетронов:
Газовое кольцо на магнетроны:
Подробное описание:
Параметры
Все параметры
От 5 600 000 р.
Количество:
 
Уточнить информацию
Поделиться

 Назначение

Идеально подходит для отработки технологий нанесения покрытий и проведения научных исследований в различных областях, таких как материаловедение, приборостроение, электроника, нанесение оптических покрытий и микромеханические устройства. Функциональная, надёжная и готовая к работе «из коробки» — она сочетает удобство, безопасность и простоту в эксплуатации

 Описание

Настольная вакуумная установка магнетронного напыления позволяет напылять металлы, диэлектрики и полупроводники на подложки диаметром до 100 мм. Она может быть оснащена одним, двумя или тремя магнетронами. Мощный источник питания обеспечивает стабильность работы системы и позволяет получать воспроизводимые и качественные покрытия.

Особенностью конструкции является технология косвенного контакта охлаждения с мишенью, которая исключает риск попадания воды при замене мишени и отсутствие уплотнения вода-вакуум, что повышает надежность и безопасность эксплуатации установки.

Преимущества

Вакуумная камера, выполнена из нержавеющей стали, оптимизирована для процесса напыления сверху вниз в малом объёме.  Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

  Особенности

  • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов;

  • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;

  • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий;

  • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;

  • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;

  • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.

Источник питания:
2-канальный DC источник питания 1500 Вт
RF источник питания:
1-канальный RF источник питания 500 Вт / Без RF источника питания
Магнетрон #1 с ручной заслонкой:
DC-RF с мишенью 1" (25,4 мм) / DC-RF с мишенью 2" (50,8 мм) / DC-RF с мишенью 3" (76,2 мм)
Магнетрон #2 с ручной заслонкой:
DC-RF с мишенью 1" (25,4 мм) / DC-RF с мишенью 2" (50,8 мм) / DC-RF с мишенью 3" (76,2 мм) / С одним магнетроном
Нагрев подложки:
до 350°С
Система откачки:
Без системы откачки / С системой высоковакуумной откачки
Регулятор расхода газа:
РРГ-12 с отсечным клапаном / Без РРГ / С РРГ, отсекающий и предохранительный клапаны
Датчик толщины:
Без датчика толщины / 1 прецизионный датчик толщины покрытий с разрешением до 0,1 Å
Пневмопривод заслонок магнетронов:
С пневмоприводом / Без пневмопривода
Газовое кольцо на магнетроны:
Без газового кольца / Газовое кольцо для подачи газа в область горения разряда
Подробное описание:
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *
Каталог
 
Закрыть