Ионный источник с замкнутым дрейфом электронов IS-Slit-200

Ионные источники с анодным слоем представляют собой надежные устройства, способные работать с различными газами и смесями, включая химически активные. Их преимущество заключается в отсутствии необходимости нейтрализатора для компенсации заряда. Конструкция источника предполагает его размещение внутри вакуумной камеры с возможностью регулировки угла наклона относительно подложки, что позволяет оптимизировать процессы обработки и напыления, контролируя равномерность покрытия и скорость осаждения.

Фокусировка пучка увеличивает плотность тока на обрабатываемой поверхности, а улучшенная изоляция обеспечивает стабильную работу при высоких напряжениях, повышая энергию ионов и, как следствие, скорость распыления. Это делает источник эффективным для травления и распыления мишеней. Метод ионного распыления особенно эффективен при создании сложных многокомпонентных оксидных материалов, где требуется точный контроль состава.

Конструкция ионного источника разработана с учетом простоты и скорости разборки для удобства обслуживания. По желанию заказчика, источник может быть дополнен необходимыми вакуумными вводами.