Ионно-лучевой источник с анодным слоем IS-Slit-100

Назначение

EPOS-IS-Slit-100 – ионно-лучевое устройство с анодным слоем применяется для очистки и травления подложек. Ионный источник может быть смонтирован на фланце ISO100 или внутри камеры с применением кронштейна, позволяющего изменять угол наклона источника.

Описание

Источники ионных пучков с анодным слоем являются очень надежными устройствами, которые могут работать с широким спектром газов и смесей. Они не нуждаются в дополнительном нейтрализаторе для компенсации заряда и поэтому могут непрерывно работать на химически активных газах (кислород, воздух, галогены и т. д.). 

Преимущество

Конструкция ионного источника обеспечивает его легкую и быструю разборку, что удобно при обслуживании.

Особенности

Существует два варианта установки ионного источника: внешний (на фланце ISO100) и внутренний (в вакуумной камере) с использованием специального регулируемого кронштейна. Внутренняя установка позволяет точно настраивать угол падения ионного пучка для оптимизации, что позволяет оптимизировать процесс обработки обработки подложки в процессах травления или очистки под конкретные задачи и геометрию.

Кроме того, по индивидуальному заказу возможна установка ионного источника на нестандартный фланец, а также комплектация необходимыми вакуумными вводами.