Универсальная вакуумная установка напыления EPOS-PVD-E-MAG-550

✔ Назначение

Высокопроизводительное решение для воспроизводимого нанесения металлических, оксидных и композитных покрытий толщиной от нанометров до микрон. 

Предназначена для воспроизводимого получения функциональных покрытий в:

• микро- и наноэлектронике — металлизация, барьерные слои (Ti, Cr, Ni, Au),
• оптике и фотонике — зеркала, антирефлексные, фильтрующие пленки,
• научных исследованиях — 2D-структуры, гетероструктуры, композитные и термобарьерные покрытия,
• промышленном производстве — мелкосерийное и опытное изготовление образцов диаметром до 150 мм.

Работает в вакууме до 1·10⁻⁴ Па (10⁻⁶ мбар), совместима с HV-процессами.

✔ Описание

Универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок EPOS-PVD-E-MAG-550 — модульная вакуумная система на базе D-образной камеры из нержавеющей стали (550 × 550 × 700 мм) с водяным охлаждением и прозрачным смотровым окном Ø150 мм.

Ключевые компоненты:

• 6 фланцев ISO100 для установки технологических модулей + дополнительные KF40/KF25/KF16 и «bolt» - фланцы,
• вращающийся подложкодержатель - одиночное или двойное вращение (до 20 об/мин), позиционирование по оптическому датчику, подъём до 120 мм,
• нагрев подложек - до 800 °C (опционально; базово - до 500 °C), ПИД-стабилизация по термопаре типа K, точность ±1 °C,
• система контроля толщины — кварцевый датчик с разрешением 0,1 Å, отображение скорости и толщины в реальном времени,
• газоподача - 3 канала (Ar, O₂, N₂) с электронными регуляторами расхода и отсечными клапанами,
• вакуумная система - турбомолекулярный насос DN200 на магнитном подвесе (1280 л/с по азоту); сухой безмасляный спиральный насос, уровень вакуума ≤ 1·10⁻⁴ Па,
• автоматические заслонки - до 5 шт., управление по таймеру или сигналу датчика толщины.

Поддерживает комбинации источников:

• до 2 термических лодочек + 2–3 магнетрона (DC/RF) + ионный источник (End-Hall) + электронно-лучевой испаритель (до 6 тиглей) + 2 LTE-испарителя.

✔ Преимущества

• Четыре способа напыления в одной системе - термический, электронно-лучевой, магнетронный (DC/RF), LTE - без перенастройки камеры.
• Высокая воспроизводимость - ПИД-нагрев (±1 °C), кварцевый контроль толщины (0,1 Å), позиционирование подложек по оптическому датчику.
• Гибкая масштабируемость - до 6 технологических фланцев + возможность дооснащения в будущем (например, добавление третьего магнетрона).
• Полная автоматизация процесса - управление вакуумом, газоподачей, заслонками, нагревом и напылением из единого интерфейса.
• Промышленная надёжность - водяное охлаждение камеры и источников, корпус из нержавеющей стали, отсутствие масляных паров в вакууме (безмасляный форвакуумный насос).

✔  Особенности (технические параметры)

• Тип установки: Универсальная вакуумная PVD установка напыления тонких плёнок;
• Камера: D-образная, нержавеющая сталь, 550 × 550 × 700 мм, водяное охлаждение;
• Макс. вакуум: ≤ 1·10⁻⁴ Па (10⁻⁶ мбар);
• Фланцы: 6 × ISO100 + KF40/KF25/KF16 + «bolt»;
• Способы напыления: Термическое, электронно-лучевое, магнетронное (DC/RF), низкотемпературное (LTE);
• Подложкодержатель: Вращаемый, до Ø450 мм, подъём до 120 мм, позиционирование по оптическому датчику;
• Нагрев подложек: До 800 °C (опционально), ПИД-регуляция, термопара K;
• Контроль толщины: Кварцевый датчик, разрешение 0,1 Å;
• Газоподача: 3 канала (Ar/O₂/N₂), электронные регуляторы расхода;
• Вакуумная система: Турбомолекулярный насос + безмасляный форвакуумный насос;
• Автоматизация: Заслонки (до 5 шт.), управление по таймеру / датчику толщины;
• Потребляемая мощность: До 16 кВт (с ЭЛИ, ионным источником и нагревом);
• Напряжение питания: 380 В, 3 фазы, 50 Гц