Исследовательская настольная установка магнетронного напыления EPOS-PVD-DESK-PRO: 2 магнетрона (1–3"), ионный источник, нагрев до 800 °C, контроль толщины 0,1 Å
✔ Назначение
Для отработки технологий нанесения металлических, диэлектрических и полупроводниковых покрытий.
Подложкодержатель ⌀ 270 мм размещение до трёх образцов ⌀ 110, шести ⌀ 60 и другие размеры.
- Отработка технологий PVD-напыления для микроэлектроники, оптики, фотоники;
- Нанесение многослойных структур (металл/диэлектрик/полупроводник);
- Исследование свойств тонких плёнок (адгезия, морфология, электропроводность);
- Подготовка образцов для аналитики (SEM, XRD, AFM);
- Обучение студентов и инженеров методам физического осаждения.
✔ Описание
Установка выполнена в компактном корпусе (Ø317 × 400 мм) из нержавеющей стали с прозрачным смотровым окном Ø100 мм. Все компоненты оптимизированы для работы в малом объёме, что обеспечивает быструю откачку и высокую воспроизводимость. Система оснащена высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами и ионным источником с анодным слоем. Предназначена для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки до 270 мм в диаметре. Источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность, воспроизводимость и высокое качество покрытия. Прямой контакт системы охлаждения с мишенью способствует получению пленок с равномерной морфологией и меньшим размером зерна.
- Магнетроны: 2 шт., совместимы с мишенями Ø25,4 / 50,8 / 76,2 мм (DC/RF), водяное охлаждение, регулируемая высота до 120 мм, ручные заслонки.
- Ионный источник: щелевой тип с анодным слоем - для очистки и ионного ассистирования.
- Подложкодержатель: Ø270 мм, вращение 1-20 об/мин, подъём до 60 мм, позиционирование ±1 мм, нагрев до 450 °C (базово) или 800 °C (опция).
- Газовая система: 2-3 канала (Ar, O₂, N₂) с электронными регуляторами расхода и отсечными клапанами.
- Вакуумная система: турбомолекулярный насос 150 л/с + безмасляный спиральный форвакуумный, давление ≤ 5·10⁻⁶ мбар.
- Контроль толщины: кварцевые микровесы с разрешением 0,1 Å, ручная заслонка на кристалл.
- Управление: полуавтоматическое с панели, опционально полная автоматизация процесса: вакуум, газ, температура, экспозиция.
Компактная установка магнетронного напыления может быть доукомплектована ВЧ магнетроном, нагревателями (до 450 или 800 ºС) и датчиком толщины пленки.
✔ Преимущества
- Высокая чистота покрытий: полностью безмасляная откачка вакуумной системы и UHV-совместимых материалов:
- Гибкость конфигурации: выбор размера магнетронов, RF/DC, нагрев до 800 °C, ионный источник;
- Точное воспроизведение: контроль толщины (0,1 Å), ПИД-нагрев (±1 °C), стабильный разряд;
- Безопасность и надёжность: блокировки по потоку воды, давлению, температуре;
- Российское производство: гарантия, сервис, запчасти, техподдержка.
✔ Особенности (технические параметры)
- Тип установки: настольная PVD-установка магнетронного напыления;
- Камера: нержавеющая сталь, Ø317 × 400 мм, смотровое окно Ø100 мм;
- Магнетроны: 2 шт., Ø25,4 / 50,8 / 76,2 мм (1"/2"/3"), DC/RF;
- Ионный источник: щелевой с анодным слоем;
- Подложкодержатель: Ø270 мм, вращение 1–20 об/мин, подъём до 60 мм;
- Нагрев подложек: до 450 °C (базово), до 800 °C (опция);
- Контроль толщины: кварцевый датчик, разрешение 0,1 Å;
- Газовая система: 2-3 канала (Ar/O₂/N₂), электронные регуляторы;
- Вакуумная система: турбомолекулярный насос 150 л/с + спиральный форвакуумный;
- Макс. уровень вакуума: 5·10⁻⁶ мбар;ОПЦИИ
- Питание: 3×380 В, 50 Гц, до 5 кВт;
- Управление: полуавтоматическое, опционально - полная автоматизация.
✔ Опции:
- Водяное охлаждение камеры;
- Газовое кольцо на магнетроны для подачи газа в область разряда;
- Нагрев подложки до 800°С;
- 1-канальный RF источник питания 500 Вт;
- Резистивный испаритель углерода;
- Пневмопривод заслонок магнетронов.