Главная/Научное и исследовательское оборудование/Установка плазмохимического реактивно-ионного травления

Установка плазмохимического травления EPOS-GLASS-RIE

Артикул: 833443859
Установка плазмохимического травления EPOS-GLASS-RIE - представляет собой специализированный комплекс, который предназначен для обработки подложек оптического и микроэлектронного назначения в лабораторных технологических исследованиях.
От 4 990 000 р.
Количество:
 
Уточнить информацию
Поделиться

 Назначение

Установка плазмохимического реактивно-ионного травления EPOS-GLASS-RIE подходит для широкого спектра лабораторных и технологических задач в микроэлектронике, оптике и биотехнологиях, где требуется точное и контролируемое сухое анизотропное травление различных материалов.

Основные функциональные возможности установки включают:

  • Формирование глубоких каналов в кремнии, стекле по заданной топологии.
  • Формирование высокоточных сквозных отверстий;
  • Снятие верхнего слоя различных материалов, таких как кремний, диоксид кремния (SiO2), нитрид кремния и др.
  • Удаление остатков инкапсулированных материалов на кристаллах интегральных схем после удаления их корпусной части.
  • Снятие фоторезиста с поверхности подложек.

Преимущества

  • Использование удаленной индуктивной плазмы обеспечивает более контролируемое и чистое травление;
  • Регулируемое положение плазмы относительно обрабатываемой пластинки позволяет оптимизировать процесс травления;
  • Наличие дополнительного высокочастотного (ВЧ) смещения на травильном столике для улучшения контроля над процессом;
  • Распределенный подвод газов через «душ» и система откачки обеспечивают равномерность подачи и поддержание необходимого распределения давления;
  • Возможность ограничивать температуру пластины для управления процессом и предотвращения повреждений подложек.
  • Высокая однородность плазмы на подложках до 100 мм.
  • Возможность работы с мощностью ВЧ плазмы до 800 Вт.

  Особенности

Расширенные функциональные возможности обеспечивают обработку широкого спектра материалов и формирование микроструктур, востребованных в передовых областях техники. Данный подход позволяет реализовывать следующие процессы:

  • Анизотропное плазменное травление кремния и диэлектрических материалов (включая монооксид кремния, диоксид кремния и другие соединения). Данная технология широко применяется в микроэлектронике для создания глубоких каналов;
  • Формирование микрофлюидных устройств для анализа отдельных живых клеток in vitro.  Микрофлюидика, как метод манипулирования жидкостями в микромасштабе, играет важную роль в клеточной биологии и биомедицине.
  • Изготовление датчиков потока и оптических преобразователей различного типа. Такие устройства находят применение в различных областях, включая мониторинг окружающей среды и медицинскую диагностику.
  • Проектирование и производство микроэлектромеханических систем (МЭМС). МЭМС интегрируют механические и электрические компоненты на микрочипе, что позволяет создавать компактные и высокопроизводительные устройства.
  • Производство сложных интегральных схем (СБИС). Данный процесс включает в себя многоэтапное формирование сложной схемы на полупроводниковой подложке, что является основой современной микроэлектроники.
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *
Каталог
 
Закрыть