Главная/Научное и исследовательское оборудование

Оборудование

Сортировать

Цена - убывание

Цена - возрастание

Название - Я-А

Название - А-Я

Быстрый просмотр

🕛 Под заказ

Настольная установка магнетронного напыления

Артикул: 833443868

Мощность до 1,5кВт, встроенный нагрев подложек.

Настольная магнетронная установка EPOS-PVD-DESK-STD в стандартном исполнении – это оптимальное решение для целей и задач учебного процесса в ВУЗах, а также научно-исследовательской деятельности.

Магнетрон #1 с ручной заслонкой:

Магнетрон #2 с ручной заслонкой:

Нагрев подложки:

до 350°С

Система откачки:

Подробное описание:

Скачать

Параметры

От 5 600 000 р.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное

Быстрый просмотр

🕛 Под заказ

Исследовательская настольная установка магнетронного напыления

Артикул: 833443869

Настольная PVD-установка EPOS-PVD-DESK-PRO для научно-исследовательских лабораторий, центров коллективного пользования и R&D-отделов промышленных предприятий. Предназначена для отработки технологий нанесения металлических, диэлектрических и полупроводниковых покрытий. Высокое качество покрытий, благодаря автоматизированному управлению вакуумной системой и процессом напыления.

Магнетрон #1 с ручной заслонкой:

Магнетрон #2 с ручной заслонкой:

Нагрев подложки:

Система откачки:

Подробное описание:

Скачать

Параметры

От 7 000 000 р.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное

Быстрый просмотр

✅ В наличии

Лабораторная установка магнетронного напыления

Артикул: 833443870

МОЩНОСТЬ ДО 1,5КВТ, ВСТРОЕННЫЙ НАГРЕВ ПОДЛОЖЕК.

Лабораторная установка магнетронного напыления EPOS-PVD-DESK-BASIC — для исследовательских лабораторий, созданная для длительной непрерывной работы без потери стабильности процесса.

Магнетрон #1 с ручной заслонкой:

DC-RF с мишенью 3" (76,2 мм)

Магнетрон #2 с ручной заслонкой:

Нагрев подложки:

до 350°С

Система откачки:

Подробное описание:

Скачать

Параметры

В наличии 1

От 4 800 000 р.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное

Быстрый просмотр

🕛 Под заказ

Настольная установка химического осаждения из газовой фазы

Артикул: 833443866

Установка химического осаждения из газовой фазы EPOS-CVD-MOCVD-DESK предназначена для создания металлических и оксидных и композиционных тонких плёнок на твёрдых подложках, совместимых с условиями вакуума и нагрева, что актуально для упрочнения поверхностей, полупроводниковой промышленности и нанесения биосовместимых слоёв.

Система откачки:

Параметры

От 5 500 000 р. / шт.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное

Быстрый просмотр

🕛 Под заказ

Настольная высокотемпературная вакуумная печь

Артикул: 833443863

Настольная высокотемпературная вакуумная печь EPOS-VACFURN-DESK-1600, предназначенная для термообработки материалов при температурах до 1600 °C. Позволяет выполнять различные процессы: спекание, закалку, отпуск, дегазацию, прокаливание, отжиг и вакуумную пайка.

Рабочий диапазон температур:

Предельные размеры образцов:

60х60х60

Система откачки:

Подробное описание:

Скачать

Параметры

От 1 870 000 р.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное

Быстрый просмотр

Установка плазмохимического реактивно-ионного травления

Артикул: 833443859

Установка плазмохимического травления EPOS-GLASS-RIE - представляет собой специализированный комплекс, который предназначен для обработки подложек оптического и микроэлектронного назначения в лабораторных технологических исследованиях.

От 4 990 000 р.

Количество:

Уточнить информацию

В избранное