Электронно-лучевые испарители

Электронно-лучевые испарители (E-beam, electron-beam physical vapor deposition, EBPVD)  предназначены для высокочистого PVD-напыления металлов, полупроводников, диэлектриков и композитов в научных и промышленных вакуумных установках. Испарение осуществляется сфокусированным электронным лучом, генерируемым в нижней части испарителя - вне зоны распыления.

Ключевая особенность  - траектория луча, поворачиваемая на 270° с помощью системы магнитных линз и отклоняющих полюсов. Луч выходит из электронной пушки, проходит по дуге и вертикально попадает в тигель, расположенный над источником. Эта схема полностью исключает попадание паров и брызг расплава на катод, что обеспечивает стабильность эмиссии и долгий ресурс источника.

Для равномерного испарения материала и предотвращения локальных перегревов используется опциональная система электромагнитного отклонения луча. Она позволяет сканировать фокус пучка по поверхности тигля (окружность, линия, спираль и др.) с частотой до 250 Гц - без механического перемещения. Особенно важно при работе с оксидами, фторидами и тугоплавкими металлами.

ЭЛИ работают в глубоком вакууме без технологических газов, что гарантирует высокую чистоту плёнок. Диапазон толщин - от 1 нм до 20 мкм, мощность в фокусе - до 10 кВт.

Решение легко адаптируется под задачу: от компактного однотигельного испарителя для лаборатории до шеститигельной автоматизированной системы для промышленного производства.
Базовая комплектация: ЭЛИ EPOS-BEAM, блок питания, гибкие вакуумные вводы.
Опция: система электромагнитного отклонения луча.