Примеры дооснащения существующих установок
Модернизация магнетрона в УВН-71
Штатный источник заменён на универсальный DC-магнетрон Ø76,2 мм с жидкостным охлаждением и регулировкой по высоте.
- Результат: однородность покрытия ±5% на Ø100 мм;
- Совместимость с кварцевым датчиком толщины (0,1 Å).
Доработка магнетрона в ННВ-6
Добавлен второй магнетрон: возможность реактивного напыления (TiN, Al₂O₃) и двухкомпонентных структур.
Внедрение электронно-лучевого испарителя (ЭЛИ)
Интегрирован в ВУ-1А и другие камеры. Позволяет наносить тугоплавкие материалы (W, Mo, оксиды) без загрязнения.
Установка ионного источника
В китайской установке в Казахстане смонтирован EPOS-END-HALL.
- Реализована ионная очистка подложки перед напылением.
Модернизация системы откачки
Замена диффузионного насоса на крионасос или турбомолекулярный.
- Вакуум до 1×10⁻⁶ мбар;
- Отсутствие углеводородных загрязнений;
- Полная совместимость с PVD-процессами.
Внедрение оптического контроля толщины
Кварцевый датчик интегрирован в ВУ-2М, ВУ-1А.
- Точность ±2%;
- Возможность нанесения многослойных структур (Mo/Si, ITO/ZnO).